IsoMet低速精密切割机是美国标乐专为各种材料的低变形切割而设计的低速精密切割机。采用了先进成熟的低变形切割技术，其切口损失率低，可切割出几乎没有任何损伤和变形的截面；配有种类

SENDURO?, 革命性的光谱椭偏仪 优势: ? 高测量速率 ? 全自动样品校准 ? 可测量透明和吸收基底 ? 按键式操作 ? 友好的软件界面 ? 高测量精度 ? *简化安装过程 分析

规格 光谱范围250 nm ... 900 nm测量时间单点测量时间40 μs, 全光谱测量时间20 ms可变入射角度45, 50, 55, 60, 65, 70, 90 deg载物台可调节高度和倾斜度的载物台，手动25 mm x-y 方向移动光源Xe弧光灯分光

商品描述：在线式激光椭偏仪，可以在线测量薄膜厚度。

多角度激光椭偏仪 SE400advanced使用632.8nm波长HeNe激光器，对测量薄膜厚度，折射率和吸收系数有非常出色的精度。 SE400advanced能够分析单层膜，多层膜和大块材料（基底） ?超高精度和稳定性

可测量大尺寸材料、单层与多层膜、界面、超薄膜与厚膜的厚度与光学参数。SE850DUV特别适用于高要求的研发应用，例如测量玻璃上的薄透明膜、有机发光体、多层半导体材料复合膜、窗玻璃上

光谱范围: 190 nm - 950 nm SE 800 DUV 针对要求苛刻的应用而设计，如玻璃上的极薄透明膜，平板印刷中的光刻胶材料和减反射膜，透明或吸收基底上的多层膜，高级微电子应用比如SOI，ONOPO和高k

商品描述：632.8nm和1550nm双波长激光椭偏仪，主要用于激光器件测量。选件与SE400相同。

固定角度，高重复性，12英寸（300mm)大面积激光椭偏仪，尤其适用于大面积上超薄膜（3-5nm）测量

固定角度，高重复性，12英寸（300mm)大面积激光椭偏仪,选件同SE800选件。主要用于玻璃上透明薄膜,发光材料和半导体有机物,吸收和透明衬底上多层膜,玻璃上防反射膜，微电子应用：SOI/高K/低K。

中红外光谱椭偏仪具有大面积水平样品台，马达驱动可变入射角度，支持样品水平扫描，吹氮气去水蒸气保护红外光学透镜。提供新材料如有机物半导体, OLED和有机物光谱范围内振动光谱的优良

主要用于玻璃上透明薄膜,发光材料和半导体有机物,吸收和透明衬底上多层膜,玻璃上防反射膜，微电子应用：SOI/高K/低K.各项异性材料测量。选件请参考SE800选件。

在线式光谱椭偏仪，可以在线测量薄膜厚度

LV200和LV300系列可以满足半导体工业对晶圆片精细测量的要求，测量范围可达200mm或300mm。它可以完成粗糙度、体积、纳米尺度下的深度测量，由于采用独特的非共聚焦成像技术，在保证高精度的

光谱范围: 700 nm - 1700 nm SE 805是近红外光谱椭偏仪，是在近红外波段基于快速干涉调制探测的高性能光谱椭偏仪。SE 805使用步进扫描分析器方式，调制光的强度在固定的分析器位置被测量，使

迄今为止*简单易用的椭偏仪 ?SE 500adv结合椭偏测量和反射测量 ?可消除椭偏测量对透明膜厚度的周期不确定性 ?膜厚测量范围可扩展至25000 nm. ?激光波长632.8 nm ?反射计光谱范围4

深紫外主要用于研究超薄膜、表面粗糙度，并可研究温度、应力、张力、掺杂、组份、晶态等对材料禁带宽度的影响；深紫外也可研究AlGaN, AlN等宽禁带材料，测量膜厚0-10nm。可见光可测量折射

商品描述：中红外光谱椭偏仪具有大面积水平样品台，马达驱动可变入射角度，支持样品水平扫描，吹氮气去水蒸气保护红外光学透镜。提供新材料如有机物半导体, OLED和有机物光谱范围内振动

【详细内容】  L1800系列生物显微镜配置消色差物镜或半平场消色差物镜,大视野目镜，具有成像清晰，视野广阔，操作方便等特点，可广泛应用于医疗卫生、化验等领域，是医疗、教学、科

【详细内容】 特点：uCFI60光学系统－－世界*高级别的无限远光学系统，第一次应用于Nikon显微镜，使得在任何放大率，成像都清晰。u由于Nikon无微不至的人机学设计，长时间的舒适操作得到