一、精密测量金相显微镜仪器的主要特点和用途     DMM-450C多功能精密测量显微镜是针对半导体工业、硅片制造业、电子信息产业、冶金工业需求而开发的。作为高级精密测量金

一、金相显微镜仪器的主要特点和用途 工业显微镜是针对半导体工业、硅片制造业、电子信息产业、冶金工业需求而开发的。作为高级显微镜用户在使用时能够体验其超强性能，可广泛应用

一、仪器的主要用途和特点    XPF-660C反射偏光显微镜，又叫矿相显微镜或岩相显微镜，是地质、矿产、冶金等部门和高等院校相关学科的专业实验仪器之一。   随着光学技术的不

一、荧光显微镜仪器的主要用途和特点    DFM-75C倒置无穷远荧光显微镜是由倒置显微镜和落射荧光显微镜组成。仪器配有长工作距离平场消色差物镜、大视野高眼点目镜、双目观察，倒置

一、仪器的主要用途和特点    XDS-700系列倒置显微镜集合了优良的无限远显微光学系统与现代高品质显微观察方法，可以轻松实现明视场、相位相衬、偏振光、LED落射荧光等观察功能、为

XSP-14C正置生物显微镜高效性，灵活性，稳定性是本类生物显微镜针对各种应用领域日常工作而开发的，从日常到科学研究，可广泛用于各种实验室、学校、医院，其极高的性价比，合理的人性

项目CX41光学系统UIS2光学系统（无限远校正系统）照明装置内置透射光柯勒照明，6V30W卤素灯 100-120V/220-240Vg 0.85/0.45A 50/60Hz调焦系统载物台垂直运动由滚柱（齿条小齿轮）机构导向，采用粗微

产品介绍：5400L是日立公司设计的一款装备有自动大样品台、精准闭环扫描器、以及数字化光镜的全功能型高分辨原子力显微镜，同时具有自动更换探针、自动智能扫描、自动多点连续扫描、自

产品描述：折射率测量范围（nD）：1.30000～1.70000（液体）折射率测量范围（nD）：1.30000～1.95000（固体）波长：706.5nm、656.3nm、589.3nm、546.1nm、486.1nm、435.8nm、434.1nm和404.7 nm测量示值误差（nD）：±

【产品特点】利用精确配制浸液法，可求得*小试样的折射率，对保护被测试样是尤为重要的。基于折射定律的原理，所以被测试样折射率不受仪器棱镜折射率的限制。在光学玻璃厂中,新产品试

仪器简介：新型离子和电子双束系统为材料研究提供了无与伦比的纳米分析能力。  日立公司久负盛名的高可靠性和高性能设计在新型双束系统（超高精密聚焦离子束FIB和高分辨场发射电镜FE

仪器简介：为了满足在同一台仪器上进行综合分析(需要大探针电流)和超高分辨率观察的需求，日立开发了SU-70。它采用成熟的超高分辨率半内透镜技术和热场发射电子枪，为探索纳米世界打开

技术参数（机械部分）XY扫描器：100μm×100μm（闭环），可选配200μm×200μm（闭环）Z扫描器：12μm (可选配25μm)水平度：100μm线扫描垂直偏差不超过±2nmXY和Z扫描器的正交性：1.0°样品台移动范围：

XE-NSOM –用于各种光学应用的完备的AFM 系统XE-NSOM是Park Systems专为高级光学研究而精心设计的一款专业产品，该仪器具备近场扫描光学显微镜(Near-field Scanning Optical Microscopy NSOM)、拉曼光谱仪 (Raman

技术参数(机械部分)：1.  XY扫描器：100μm×100μm（闭环），可选配200μm×200 μm2.  Z扫描器：12μm (可选配25μm)3.  水平度：50μm线扫描垂直偏差不超过2nm4.  XY和Z扫描器的正交性：1.0°5.

技术参数(机械部分)：1. XY扫描器：50μm×50μm（闭环），可选配100μm×100 μm（闭环）2. Z扫描器：12μm (可选配25μm)3. 水平度：50μm线扫描垂直偏差不超过1nm4.  XY和Z扫描器的正交性：1.0°5. 样品

技术参数(机械部分)：1. XY扫描器：50μm×50μm（闭环），可选配100μm×100 μm（闭环）2. Z扫描器：12μm (可选配25μm)3. 水平度：50μm线扫描垂直偏差不超过1nm4. XY和Z扫描器的正交性：1.0o5. 样品台移动

技术参数(机械部分）：1. XY扫描器：100μm×100μm（闭环）2. Z扫描器： 25μm3. 水平度：100μm线扫描垂直偏差不超过2nm4. 样品台移动范围：10mm（X/Y），14mm (Z)5. 成像方法：离子电导ICM（液态环境）和

特点：1. 优秀的低加速电压成像能力，1kv分辨率可达1.3nm2. 日立专利的ExB设计，不需喷镀，可以直接观测不导电样品3. Upper探头可选择接受二次电子像或背散射电子像4. 可以根据样品类型和观测

特点：1. 优秀的低加速电压成像能力，1kv分辨率可达1.3nm2. 日立专利的ExB设计，不需喷镀，可以直接观测不导电样品3. Upper探头可选择接受二次电子像或背散射电子像4. 可以根据样品类型和观测