低温等离子设备是利用化学气相沉积技术，在低温环境下产生等离子体而实现材料的沉积。这类设备常用于微电子器件、光电器件、生物芯片等领域。低温等离子设备主要由磁控溅射、反应磁控溅射、热蒸发、化学气相沉积等装置组成。其主要特点是沉积速率快、沉积薄膜结构致密、成膜质量好、适用于大面积薄膜制备。其中，化学气相沉积设备被广泛应用于半导体材料的制备。随着科技的发展，低温等离子设备将越来越被应用于生物医学、能源材料等领域。