交直流荧光磁粉探伤机 CEW-2000

一、概述：CEW-2000型交直流荧光磁粉探伤机系机电组合式半自动磁粉探伤设备，由电源控制系统、夹持磁化装置、磁悬液系统等几大部分组成，适用于以湿式磁粉法检测由铁磁性材料制成的半轴、管、棒类零件的表面及近表面因铸造、锻造、加工、疲劳等各种原因引起的裂纹和各种细微缺陷。
本设备采用手动、自动两种运行方式，由可编程控制器（OMRON PLC）集中控制。手动时，可进行每个功能的单步独立操作；自动时，设备自动执行PLC内部程序，工件上料到位后，按启动按钮，可实现工件夹紧——喷淋——转动——磁化等一系列动作。对于长工件需分段进行磁化，周向磁化采用直接通电，纵向磁化采用一只移动式线圈及一只固定式异形线圈具，有良好的磁化效果。交流磁化均带断电相位控制，具有较好的剩磁稳定度，既适用于连续法探伤检查，又适用于剩磁法探伤检查。复合磁化在工件上形成旋转磁场，一次性全方位显示磁迹，具有较高的工作效率。

二、主要技术参数：1、周向磁化电流：AC 0-2000A有效值，连续可调；
2、纵向磁化磁势：AC 0-12000AT，有效值，连续可调，
                DC:0-6000AT，平均值（半波两倍于平均值）；
3、磁化灵敏度：15/50A1型试片显示清晰；
4、暂载率：≥30%；
5、电极间距：60-1500mm，可调；
6、运行方式：手动、自动运行；
7、磁化方式：周向、纵向、复合磁化；
8、尾架电极箱运动方式：手动；
9、夹紧方式：气动；
10、退磁方式：自动衰减式退磁；
11、 纵向退磁磁势：AC：12000-0 AT，有效值，连续可调；
周向退磁电流：AC：2000-0 A，有效值，连续可调；
12、退磁效果：≤160A/M（0.2mT）；
13、电源：三相四线380V±10% 50HZ    瞬时80A；
14、外形尺寸： 2800（长）×750（宽）×1600（高）mm；
15、 重量：约1200Kg。